光学反射膜厚仪FILMTHICK-Mapping
产品说明
景颐光电膜厚测量仪FILMTHICK系列利用光干涉原理，机械结构集成的进口卤钨灯光源，使用寿命超过10000小时。FILMTHICK对样品进行非接触式、无损、高精度测量，可测量反射率、颜色、膜厚等参数。可应用于半导体薄膜、液晶显示、光学镀膜、生物医学等薄膜层的厚度测量。OPTICAFILMTEST光学膜厚测量软件采用FFT傅里叶法、极值法、拟合法多种高精度算法，包含了类型丰富的材料折射率数据库，开放式材料数据库，有效地协助用户进行测试分析，测量期间能实时显示干涉、FFT波谱和膜厚等趋势。
Mapping型号特点：
通过分析薄膜表面反射光和薄膜与基底界面反射光相干涉形成的反射谱，同时搭配高精度R-Theta 位移台，可对整个样品进行快速扫描。
该系统具有以下特点：
①自动快速测量，单点时间＜0.5s；
②点位编程，呈现 D 分布；
③兼容 2 - 12 寸晶圆片。
能够快速准确测量薄膜厚度、光学常数等信息，并对膜厚均匀性做出评价。
测控与分析软件
光谱测量能力：反射率光谱测量
数据分析能力：膜厚分析能力，光学常数（折射率和消光系数）
软件使用Windows平台，设置不同级别的用户登录，如（Manager/Operator） 等：高级别用户可以修改Recipe；Operator只能运行已有的Recipe
以文字或图形的方式显示当前正在运行的Recipe名、测量位置编号、剩余时 间等参数
软件具有历史记录功能，可存储历史记录文件
软件可以根据需求设备测量点数
可以生成2D或者3D图形
绘图功能：Mapping（contour），Line 等
统计功能：Max, Min, Average, Median, STD 等
.输出数据形式可定制，格式为CSV或EXCEL格
- 基本功能 获取薄膜厚度值以及 R等光谱
- 测量光斑大小 1-5mm
- 膜厚重复性测量精度 0.02nm（100nm 硅基 SiO2 样件，100 次重复测量）
- 膜厚绝对精度 0.2%或 2nm 之间较大者
- 膜厚稳定性 优于 0.05nm
- 膜厚测量范围 15nm~70um
- 样品台 自动化 R-Theta 移动平台，样品台直径不小于 200mm
- 测试方式 任意多点自动化测试，生成厚度 Mapping 图（1.圆形/方形，2. 放射形，3.中心或边缘排除，4.定制（按样品需要编辑坐标点））
- 测试速度（含有真空夹盘） 5 个点 5 秒,25 个点 14 秒,57 个点 30 秒 11.光源：标准卤素光源（寿命 10000 小时）
- 反射率模拟 可进行不同镀膜材料的建模，模拟镀膜膜系的反射率曲线
- 分析软件 多达数百种的光学材料常数数据库，并支持用户自定义光学材料 库；提供多层各向同性光学薄膜建模仿真与分析功能；
- 可测晶圆大小 2寸&4寸& 6寸& 8寸&12寸
- 晶圆固定方式 真空吸附
- 载物台移动范围 不小于200mm*200mm
- 样品检测台 手动放置样片，自动mapping测量，测量点数跟位置在Recipe中可根据需要编辑
- 质保 一年（人为损坏和耗材除外）
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